日前，江蘇省地方標準《半導體行業(yè)污染物排放標準》（征求意見稿）已經印發(fā)。征求意見稿對于半導體行業(yè)大氣污染物、水污染物排放項目及限值做了詳細規(guī)定。全文如下：
半導體行業(yè)污染物排放標準
（征求意見稿）
前言
為貫徹《中華人民共和國環(huán)境保護法》、《中華人民共和國大氣污染防治法》、《中華人民共和國水污染防治法》等法律、法規(guī)，防治環(huán)境污染，改善環(huán)境質量，促進半導體行業(yè)生產工藝和污染治理技術的進步，制定本標準。
本標準規(guī)定了半導體工業(yè)企業(yè)或生產設施的水污染物和大氣污染物排放限值、監(jiān)測和監(jiān)控要求，以及標準實施與監(jiān)督等相關規(guī)定。
本標準未規(guī)定的污染物項目仍執(zhí)行國家或地方污染物綜合排放標準，國家或地方發(fā)布的(綜合或行業(yè))污染物排放標準中，排放限值嚴于本標準限值的，按照從嚴要求的原則，執(zhí)行更嚴格的排放控制要求。
本標準為首次發(fā)布。
本標準由江蘇省環(huán)境保護廳組織制訂。
本標準起草單位：江蘇省環(huán)境科學研究院、江蘇省環(huán)科咨詢股份有限公司。
本標準江蘇省人民政府于2018年**月**日批準。
本標準自2018年**月**日實施。
本標準由江蘇省環(huán)境保護廳解釋。
半導體行業(yè)污染物排放標準
1范圍
本標準規(guī)定了半導體企業(yè)的水污染物和大氣污染物排放標準值。
本標準適用于半導體企業(yè)的水污染物排放管理、大氣污染物排放管理，以及半導體企業(yè)建設項目環(huán)境影響評價、建設項目環(huán)境保護設施設計、竣工驗收及其投產后的污染控制與管理。
2規(guī)范性引用文件
本標準內容引用了下列文件或其中的條款。凡是不注明日期的引用文件，其有效版本適用于本標準。
GB/T6920水質pH值的測定玻璃電極法
GB/T7466水質總鉻的測定
GB/T7467水質六價鉻的測定二苯碳酰二肼分光光度法
GB/T7470水質鉛的測定雙硫腙分光光度法
GB/T7471水質鎘的測定雙硫腙分光光度法
GB/T7475水質銅、鋅、鉛、鎘的測定原子吸收分光光度法
GB/T7484水質氟化物的測定離子選擇電極法
GB/T7485水質總砷的測定二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法
GB8978污水綜合排放標準
GB/T11893水質總磷的測定鉬酸銨分光光度法
GB/T11901水質懸浮物的測定重量法
GB/T11907水質銀的測定火焰原子吸收分光光度法
GB/T11910水質鎳的測定丁二酮肟分光光度法
GB/T11912水質鎳的測定火焰原子吸收分光光度法
GB/T11914水質化學需氧量的測定重鉻酸鹽法
GB/T14668空氣質量氨的測定納氏試劑比色法
GB/T16157固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法
GB16297大氣污染物綜合排放標準
GB/T16489水質硫化物的測定亞甲基藍分光光度法
HJ480環(huán)境空氣氟化物的測定濾膜采樣氟離子選擇電極法
HJ481環(huán)境空氣氟化物的測定石灰濾紙采樣氟離子選擇電極法
HJ484水質氰化物的測定容量法和分光光度法
HJ485水質銅的測定二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法
HJ486水質銅的測定2,9-二甲基-1,10-菲啰啉分光光度法
HJ487水質氟化物的測定茜素磺酸鋯目視比色法
HJ488水質氟化物的測定氟試劑分光光度法
HJ489水質銀的測定3,5-Br2-PADAP分光光度
HJ490水質銀的測定鎘試劑2B分光光度法
HJ493水質采樣樣品的保存和管理技術規(guī)定
HJ494水質采樣技術指導
HJ495水質采樣方案設計技術指導
HJ505水質五日生化需氧量(BOD5)的測定稀釋與接種法
HJ533環(huán)境空氣和廢氣氨的測定納氏試劑分光光度法
HJ534環(huán)境空氣氨的測定次氯酸鈉-水楊酸分光光度法
HJ535水質氨氮的測定納氏試劑分光光度法
HJ536水質氨氮的測定水楊酸分光光度法
HJ537水質氨氮的測定蒸餾-中和滴定法
HJ544固定污染源廢氣硫酸霧的測定離子色譜法
HJ548固定污染源廢氣氯化氫的測定硝酸銀容量法
HJ549環(huán)境空氣和廢氣氯化氫的測定離子色譜法
HJ583環(huán)境空氣苯系物的測定固體吸附/熱脫附-氣相色譜法
HJ584環(huán)境空氣苯系物的測定活性炭吸附/二硫化碳解吸-氣相色譜法
HJ659水質氰化物等的測定真空檢測管-電子比色法
HJ670水質磷酸鹽和總磷的測定連續(xù)流動-鉬酸銨分光光度法
HJ671水質總磷的測定流動注射-鉬酸銨分光光度法
HJ694水質汞、砷、硒、鉍和銻的測定原子熒光法
HJ732固定污染源廢氣揮發(fā)性有機物的采樣氣袋法
HJ/T38固定污染源排氣中非甲烷總烴的測定氣相色譜法
HJ/T55大氣污染物無組織排放監(jiān)測技術導則
HJ/T60水質硫化物的測定碘量法
HJ/T67大氣固定污染源氟化物的測定離子選擇電極法
HJ/T75固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測技術規(guī)范(試行)
HJ/T76固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)技術要求及檢測方法(試行)
HJ/T84水質無機陰離子的測定離子色譜法
HJ/T91地表水和污水監(jiān)測技術規(guī)范
HJ/T195水質氨氮的測定氣相分子吸收光譜法
HJ/T200水質硫化物的測定氣相分子吸收光譜法
HJ/T373固定污染源監(jiān)測質量保證與質量控制技術規(guī)范(試行)
HJ/T397固定源廢氣監(jiān)測技術規(guī)范
HJ/T399水質化學需氧量的測定快速消解分光光度法
《污染源自動監(jiān)控管理辦法》(國家環(huán)境保護總局令第28號)
《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》(國家環(huán)境保護總局令第39號)
3術語和定義
下列術語和定義適用于本文件。
3.1半導體企業(yè)semiconductorindustry
指從事半導體分立器件或集成電路的制造、封裝測試的企業(yè)。
3.2特殊保護水域specialprotectedwaterarea
指《江蘇省太湖水污染防治條例》中劃定的太湖流域水域;GB3838中II類水域;由本省各市人民政府規(guī)定的居民集中式生活飲用水取水口衛(wèi)生防護帶水域。
3.3廢氣處理設施exhaustgascontroldevices
指處理廢氣的濕式洗滌塔、焚燒塔、吸收塔、冷凝塔或其他設備，但不包括工藝中設備自帶的預處理設備。
3.4密閉排氣系統(tǒng)closedventsystem
指可將設備或設備組件排出或逃逸的空氣污染物捕集并輸送至廢氣污染防治設備，使傳送的氣體不直接與大氣接觸的系統(tǒng)。
3.5現(xiàn)有企業(yè)existingfacility
指本標準實施之日前已建成投產或環(huán)境影響評價文件已通過審批的半導體企業(yè)或生產設施。
3.6新建企業(yè)newfacility
指本標準實施之日起環(huán)境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建的半導體工業(yè)建設項目。
3.7直接排放directdisge
指排污單位直接向環(huán)境水體排放水污染物的行為。
3.8間接排放indirectdisge
指排污單位向公共污水處理系統(tǒng)排放水污染物的行為。
3.9公共污水處理系統(tǒng)publicwastewatertreatmentsystem
通過納污管道等方式收集廢水，為兩家以上排污單位提供廢水處理服務并且排水能夠達到相關排放標準要求的企業(yè)或機構，包括各種規(guī)模和類型的城鎮(zhèn)污水處理廠、區(qū)域(包括各類工業(yè)園區(qū)、開發(fā)區(qū)、工業(yè)聚集地等)廢水處理廠等，其廢水處理程度應達到二級或二級以上。
3.10揮發(fā)性有機物volatileorganiccompounds,VOCs
參與大氣光化學反應的有機化合物，或者根據(jù)規(guī)定的方法測量或核算確定的有機化合物。
3.11非甲烷總烴non-methanehydrocarbon
采用規(guī)定的監(jiān)測方法，檢測器有明顯響應的除甲烷外的碳氫化合物的總稱(以碳計)。本標準使用“非甲烷總烴(NMHC)”作為排氣筒和廠界揮發(fā)性有機物排放的綜合控制指標。
3.12標準狀態(tài)standardcondition
指溫度為273.15K，壓力為101325Pa時的狀態(tài)。本標準規(guī)定的大氣污染物排放濃度限值均以標準狀態(tài)下的干氣體為基準。
3.13企業(yè)邊界enterpriseboundary
指半導體工業(yè)企業(yè)的法定邊界。若無法定邊界，則指企業(yè)的實際占地邊界。
4污染物排放控制要求
4.1水污染物排放控制要求
4.1.1標準分級
4.1.1.1特殊保護水域內不準新建排污口。原有排污口執(zhí)行表1標準和表2中的特別排放限值標準。
4.1.1.2現(xiàn)有企業(yè)2018年7月1日前仍執(zhí)行現(xiàn)行標準，自2018年7月1日起執(zhí)行表1、表2規(guī)定的水污染物排放限值。
4.1.1.3自2018年7月1日起，新建企業(yè)污水執(zhí)行表1、表2規(guī)定的排放限值。
4.1.2標準值分類
4.1.2.1本標準將污染物按其性質及控制方式分成二類。
4.1.2.1.1第一類污染物，不分污水排放方式和受納水體的功能類別，一律在車間或車間處理設施排放口采樣，其最高允許排放濃度應達到本標準要求。
4.1.2.1.2第二類污染物，在排放單位排放口采樣，其最高允許排放濃度應達到本標準要求。
4.1.2.2本標準對氟化物、懸浮物(SS)、生化需氧量(BOD5)、化學需氧量(CODCr)、氨氮5項污染物均規(guī)定了以日均值計的最高允許排放濃度和以瞬時值計的最高允許排放濃度兩項指標，這5項污染物的排放應同時遵守上述兩項指標。其他污染物的最高允許排放濃度以日均值計。
4.1.2.3企業(yè)向城鎮(zhèn)污水處理廠排放廢水時，水污染物排放執(zhí)行表1、表2排放控制要求;企業(yè)廢水排入公共污水處理系統(tǒng)的除總鎘、總鉻、六價鉻、總砷、總鉛、總鎳、總銀執(zhí)行表1排放控制要求外，由企業(yè)與公共污水處理系統(tǒng)商定或執(zhí)行相關標準，并報當?shù)丨h(huán)境保護主管部門備案，公共污水處理系統(tǒng)排放應保證達到相關環(huán)保要求。
4.1.3標準值
半導體企業(yè)的水污染物排放執(zhí)行表1和表2的規(guī)定。
4.2大氣污染物排放控制要求
4.2.1位于GB3095中一類區(qū)的污染源禁止排放表3所列的大氣污染物。
4.2.2現(xiàn)有企業(yè)2018年7月1日前仍執(zhí)行現(xiàn)行標準，自2018年7月1日起執(zhí)行本標準表3規(guī)定的排放限值。
4.2.3自2018年7月1日起，新建企業(yè)執(zhí)行表3規(guī)定的排放限值。
4.2.4企業(yè)邊界大氣污染物任何1小時平均濃度執(zhí)行表4規(guī)定的限值。
4.2.5為減少全氟化物(PFCs)排放對環(huán)境產生的影響，集成電路制造企業(yè)宜制訂PFCs排放的年削減計劃，通過優(yōu)化工藝、原料替代、循環(huán)利用、污染治理等措施減少PFCs的排放。
4.2.6其他規(guī)定
4.2.6.1排氣筒高度不應低于15m，具體高度按批準的環(huán)境影響評價文件要求確定。
4.2.6.2當排氣筒周圍半徑200m范圍內有建筑物時，除應執(zhí)行4.2.6.1規(guī)定外，排氣筒還應高出最高建筑物3m以上。
4.2.6.3如果排氣筒高度達不到4.2.6.1、4.2.6.2的任何一項規(guī)定時，其大氣污染物排放限值應按標準排放限值的50%執(zhí)行。
4.2.6.4企業(yè)內部設置的鍋爐，其大氣污染物排放應執(zhí)行GB13271。
5污染物監(jiān)測要求
5.1污染物監(jiān)測的一般要求
5.1.1企業(yè)應按照有關法律和《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》等規(guī)定，建立企業(yè)監(jiān)測制度，制定監(jiān)測方案，對污染物排放狀況及其對周邊環(huán)境質量的影響開展自行監(jiān)測，保存原始監(jiān)測記錄，并公布監(jiān)測結果。
5.1.2企業(yè)安裝污染源排放自動監(jiān)控設備的要求，按有關法律和《污染源自動監(jiān)控管理辦法》的規(guī)定執(zhí)行。
5.1.3企業(yè)應按照環(huán)境監(jiān)測管理規(guī)定和技術規(guī)范的要求，設計、建設、維護永久性采樣口、采樣測試平臺和排污口標志。
5.1.4對企業(yè)排放的廢水和廢氣的采樣，應根據(jù)監(jiān)測污染物的種類，在規(guī)定的污染物排放監(jiān)控位置進行。有廢水、廢氣處理設施的，應在該設施后監(jiān)控。
5.2水污染物監(jiān)測要求
5.2.1水污染物的監(jiān)測采樣按HJ/T91、HJ493、HJ494、HJ495的規(guī)定執(zhí)行。
5.2.2對企業(yè)排放水污染物濃度的測定采用表5所列的方法標準。
5.3大氣污染物監(jiān)測要求
5.3.1排氣筒中大氣污染物的監(jiān)測采樣按GB/T16157、HJ/T397或HJ/T75規(guī)定執(zhí)行;大氣污染物無組織排放的監(jiān)測按HJ/T55規(guī)定執(zhí)行。
5.3.2對企業(yè)排放大氣污染物濃度的測定采用表6所列的方法標準。
6標準的實施與監(jiān)督
6.1本標準由縣級以上人民政府環(huán)境保護行政主管部門負責監(jiān)督實施。
6.2在任何情況下，企業(yè)均應遵守本標準的污染物排放控制要求，采取必要措施保證污染防治設施正常運行。各級環(huán)保部門在對設施進行監(jiān)督性檢查時，可以現(xiàn)場即時采樣或監(jiān)測獲得的結果作為判定排污行為是否符合排放標準及實施相關環(huán)境保護管理措施的依據(jù)。
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